《Plasma Sources Science & Technology》雜志影響因子：3.3。
期刊Plasma Sources Science & Technology近年評價數據趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
以下是一些常見的影響因子查詢入口：
（1）Web of Science：是查詢SCI期刊影響因子的權威平臺，收錄全球高質量學術期刊，提供詳細的期刊引證報告，包括影響因子、分區、被引頻次等關鍵指標。
（2）?Journal Citation Reports (JCR)：JCR是科睿唯安旗下的一個網站，提供了期刊影響因子、引用數據和相關指標。用戶可以在該網站上查找特定期刊的影響因子信息。
（3）中科院SCI期刊分區表：提供中科院分區的期刊數據查詢，包括影響因子和分區信息。
《Plasma Sources Science & Technology》雜志是由IOP Publishing Ltd.出版社主辦的一本以物理-物理：流體與等離子體為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優秀期刊。
該雜志出版語言為English，創刊于1992年。自創刊以來，已被SCIE（科學引文索引擴展板）等國內外知名檢索系統收錄。該雜志發表了高質量的論文，重點介紹了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS在分析和實踐中的理論、研究和應用。
?學術地位：在JCR分區中位列Q1區，中科院分區為物理與天體物理大類2區，PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體小類1區。
期刊發文分析
國家 / 地區發文量統計
| 國家 / 地區 | 發文量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
期刊引用數據次數統計
| 期刊引用數據 | 引用次數 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
期刊被引用數據次數統計
| 期刊被引用數據 | 引用次數 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
文章引用數據次數統計
| 文章引用數據 | 引用次數 |
| Review on experimental and theoretical inv... | 23 |
| The importance of thermal dissociation in ... | 20 |
| Comparison of six simulation codes for pos... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzmann solver | 17 |
| Energetic ions during plasma-enhanced atom... | 17 |
| Foundations of low-temperature plasma enha... | 17 |
| Foundations of High-Pressure Thermal Plasm... | 16 |
| Kinetic study of low-temperature CO2 plasm... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed plasma actuato... | 15 |
| Modelling the helium plasma jet delivery o... | 14 |
