Plasma Sources Science & Technology（等離子源科技雜志）是由IOP Publishing Ltd.出版社主辦的一本以物理-物理：流體與等離子體為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優秀期刊。旨在幫助發展和壯大物理與天體物理及相關學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English，創刊于1992年。自創刊以來，已被SCIE（科學引文索引擴展板）等國內外知名檢索系統收錄。該雜志發表了高質量的論文，重點介紹了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS在分析和實踐中的理論、研究和應用。
ISSN：0963-0252
E-ISSN：1361-6595
出版商：IOP Publishing Ltd.
出版語言：English
出版地區：ENGLAND
出版周期：Bimonthly
是否OA：未開放
是否預警：否
創刊時間：1992
年發文量：242
影響因子：3.3
研究類文章占比：99.17%
Gold OA文章占比：26.54%
H-index：94
出版國人文章占比：0.1
出版撤稿文章占比：
開源占比：0.19...
文章自引率：0.3157...
《Plasma Sources Science & Technology》是一份國際優秀期刊，為物理與天體物理領域的研究人員和從業者提供科學論壇。該期刊涵蓋了物理與天體物理及相關學科的所有方面，包括基礎和應用研究，使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及物理與天體物理領域的原創理論、方法、技術和重要應用的稿件，并刊載了涉及物理與天體物理領域的相關欄目：綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性，并為推進該領域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為7.1，最新影響因子為3.3，SJR指數為0.771，SNIP指數為1.373。
CiteScore指標的應用非常廣泛，以期刊的引用次數為基礎評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術影響力和學術水平，是學術界常用的期刊評價指標之一。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||
| 7.1 | 0.771 | 1.373 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發的一種用于衡量科學期刊影響力的指標，以期刊的引用次數為基礎評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數據庫支持，以四年為一個時段，連續評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說，CiteScore是計算某期刊連續三年發表的論文在第四年度的篇均引用次數。CiteScore和影響因子（IF）有所不同。例如，在影響因子的計算中，分子是來自所有文章的引用次數，包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章，而分母則不包括這些非研究性文章。然而，在CiteScore的計算中，分子和分母都包括這些非研究性文章。因此，如果這些非研究性文章比較多，由于分母較大，相較于影響因子，CiteScore計算出來的分數可能會偏低。此外，CiteScore的引用數據來自Scopus數據庫中的22000多個期刊，比影響因子來自Web of Science數據庫的11000多個期刊多了一倍。
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
WOS(JCR)分區是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標，分區越靠前一般代表期刊質量越好，發文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類，然后以影響因子為標準平均分為四個等級：Q1、Q2、Q3和Q4區。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。
中科院SCI期刊分區是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類，以影響因子為標準平均分為四個等級。分區越靠前一般代表期刊質量越好，發文難度也越高。
2023年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
2022年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 1區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
2021年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
2021年12月基礎版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 是 | 否 | 物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
2021年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區
|
2020年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區
|
Plasma Sources Science & Technology(中文譯名等離子源科技雜志)是一本專注于物理,物理：流體與等離子體領域的國際期刊，致力于為全球PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究者提供一個高質量的學術交流平臺。該期刊ISSN：0963-0252，E-ISSN：1361-6595，出版周期Bimonthly。在中科院的大類學科分類中，該期刊屬于物理與天體物理范疇，而在小類學科中，它主要涵蓋了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS這一領域。編輯部誠摯邀請廣大物理與天體物理領域的專家學者投稿，內容可以涵蓋物理與天體物理的綜合研究、實踐應用、創新成果等方面。同時，我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論，以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質量，審稿周期預計為 約6.0個月 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發表的文章具有較高的學術價值和實用性。
值得一提的是，Plasma Sources Science & Technology近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領域的學者提供了一個優質的學術交流平臺。因此，關注并投稿至Plasma Sources Science & Technology無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。
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投稿咨詢| 國家 / 地區 | 發文量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
| 期刊引用數據 | 引用次數 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
| 期刊被引用數據 | 引用次數 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
| 文章引用數據 | 引用次數 |
| Review on experimental and theoretical inv... | 23 |
| The importance of thermal dissociation in ... | 20 |
| Comparison of six simulation codes for pos... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzmann solver | 17 |
| Energetic ions during plasma-enhanced atom... | 17 |
| Foundations of low-temperature plasma enha... | 17 |
| Foundations of High-Pressure Thermal Plasm... | 16 |
| Kinetic study of low-temperature CO2 plasm... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed plasma actuato... | 15 |
| Modelling the helium plasma jet delivery o... | 14 |
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